使用EUV工艺：三星明年将量产DDR5内存

       三星表示EUV技术减少了光刻中多次曝光的重复步骤，并提高了光刻的准确度，从而提高性能、提高产量，并缩短了开发时间。EUV光刻和现在常用的DUV光刻不同，它使用波长短得多的极紫外光，这就让更精细的光刻成为可能，允许制作更小的晶体管，提升工艺水平，并提升生产效率。三系估计，使用EUV工艺生产DDR5内存，其12英寸D1a晶圆的生产效率会比旧有的D1x工艺的生产力提升一倍。

       三星第四代10nm级（D1a）DRAM或高端14nm级DRAM开始全面导入EUV技术，明年会使用D1a工艺大规模量产DDR5和LPDDR5芯片，预计会使12英寸晶圆厂的生产效率翻倍。现在DDR5内存的细节还没有透露太多，DDR5内存的标准是在2019年发布的，标准带宽是32 GBps，然而我们还不知道什么时候才会见到使用DDR5内存的消费级处理器。

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